据路透社和彭博社消息，在美东时间1月27日结束的谈判中，美国已与荷兰和日本达成协议，限制向中国大陆出口某些先进芯片制造设备。

之后，多家可能会涉及美日荷之间协议的日本半导体相关企业，包括爱德万测试（Advantest）、尼康（Nikon）、昭和电工株式会社（Resonac Holdings）以及Lasertec表示，他们不知道日本经济产业省就日本、美国和荷兰之间的新协议进行过的任何接触。

荷兰半导体设备商阿斯麦（ASML）则在美日荷谈判结束后的次日表示，据其了解，三国政府之间达成的对华芯片限制措施专注于先进制造技术，包括但不限于先进制程的光刻工具。不过，政策生效前还需要时间落实到立法中。

目前来看，荷兰和美国之间的谈判的焦点会是，阿斯麦DUV 设备会不会被限制出口？以及DUV机器会在多大程度上被限制出口？作为占据全球六成光刻机市场、以及全球唯一一家能够供应7纳米及以下芯片所需的EUV光刻机厂商，阿斯麦受到新协议的任何附加限制，都可能影响中国大陆的半导体产业。那么，新协议对阿斯麦的限制有几种可能？相对地对中国大陆半导体产业发展影响会有多大？

综合阿斯麦官网和业内人士的介绍，目前阿斯麦的光刻机主要分为四个类别。

第一类是极紫外线光刻机（EUV），可用于用于生产7nm/5nm/ 3nm节点的最先进的芯片。

第二类是可用于生产16nm—7nm先进制程的最新型浸润式光刻机。

第三类是可用于生产45nm—28nm成熟制程的浸润式光刻机。

第四类是较旧的、可以生产65nm及以上成熟制程的干法光刻机。

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阿斯麦官网呈现其光刻设备，图源：阿斯麦官网

 2019年，在美国的压力下，阿斯麦就已被限制向中国大陆销售第一类并且是最先进的 EUV设备。目前看来，新协议极有可能将第二类也就是最新型的浸润式光刻机纳入限制出口范畴。

业内人士分析，如果EUV和第二类DUV被限制出口，中国大陆先进制程的扩产可能会受到影响，成熟制程则不受影响，整体影响程度相对较小。

如果限制范围扩大到EUV和全部浸润式光刻机，那么从短期看，中国大陆落在45-28nm区间的大多数数字芯片、显示驱动芯片、车规MCU/CIS、小容量存储芯片可能无法扩产；从中长期看，中国大陆被迫使用DUV干法设备生产相关工艺，会带来成本上升，竞争力下降。

如果四类光刻机皆在被限范畴，则会对中国大陆半导体制造造成大范围冲击，因为28nm—110nm是中国大陆芯片制造需求最大的范围。

不过，据阿斯麦发表的声明，美日荷之间达成的对华芯片限制措施主要集中于先进制造技术领域。因此，新协议有较大的可能会将第二类最新型浸润式光刻机也纳入出口管制范畴。

事实上，决定美日荷谈判走向的始终是三国利益能在多大程度上取得平衡。据路透社报道，荷兰政府消息人士透露，荷兰在谈判中想要争取协议对ASML的限制并不比对美国公司的限制更多，此外， ASML的竞争对手尼康的所在国日本也需要接受类似的规定。

毕竟，不管对于荷兰还是日本，中国大陆都是不能完全割舍的大市场。据阿斯麦首席执行官Wennink透露，2022年中国市场的销售金额占阿斯麦全年总收入的14%，此外，目前来自中国公司的订单约占阿斯麦 404 亿欧元积压订单的 15%。

而对于另一家日本半导体制造设备巨头东京电子而言，根据其2023财年Q1、Q2的数据，来自中国大陆的营收占其总营收的比重超过两成。

东京电子1.jpg根据东京电子2023财年Q1、Q2的数据，来自中国大陆的营收占其总营收的比重超过两成，图源：东京电子官网


来源： 芯师爷 作者：